快速退火炉是现代大规模集成电路生产工艺过程中的关键装备。主要用于离子注入后杂质的激活、浅结制作、生长高质量的氧化膜层和金属硅化物合金形成等工艺。随着集成电路工艺技术的飞速发展，开展快速退火炉系统的技术研究，对国内开发和研究具有自主知识产

　　一.退火工艺简介：　　退火是一种金属热处理工艺，指的是将金属缓慢加热到一定温度，保持足够时间，然后以适宜速度冷却，有时是自然冷却，有时是控制速度冷却的热处理方法。　　二.退火的目的：　　1.降低硬度，软化工件，改善切削加工性。　　2.

　　真空退火炉炉内的气氛直接会影响到产品的表面处理效果，炉内的气氛由真空炉的气密性决定，因此要保证工件质量，首先要保持真空炉的气密性良好，真空退火炉气密性检查难点在于炉体面积大、管道复杂，并且容易泄漏的部位繁多，对气密性的检查要

　　立式真空退火炉的用途和性能特点　　立式真空退火炉用途：　　主要适用于各种材料真空淬火后的光亮回火，也可用于有色金属的再结晶退火及时效。　　立式真空退火炉的性能特点:　　合理空间模块化设计，快速抽空和少气用量；　　使用金属反射

　　问题一：　　在真空退火炉生产过程中发生停电时，导致退火炉降温、冷却水泵停止运行，怎么办？　　1、封锁氢氮混合气输气管阀门，打开氮气输气管阀门，将退火炉中的氢气排出；　　2、冷却水转换到应急自来水供水。　　问题二：　　冷却水泵